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2008年4月19日
日本の水利用技術は世界トップクラスで、特に、現在、超純水製造や海水淡水化に用いられる逆浸透膜の製造シェアは、日本がトップの65%。
超純水とは、純度100%に限りなく近い不純物を含まないH2Oのこと。
超純水はLSI(半導体)製造に欠かすことの出来ないものとして、研究開発が進められてきた。
半導体の製造の様々な工程で水で洗浄する必要があるが、不純な水で行なうと製品の精度に著しい悪影響を及ぼす。1960年代後半頃からアメリカなどで、超純水での洗浄の必要性が説かれたが、当初は製造コストが高く、他の溶剤で代用されることもあった。しかし、半導体の性能向上に従い超純水の必要性が益々高まり世界各国での技術競争の中、技術革新により安価となり広く使われるようになった。
超純水は、純度が高いため不純物を溶解する能力が高く、洗浄した物への汚れの再付着がないため精密機械の洗浄に適しているわけだが、50mプールに不純物が耳かき1杯程度までならよいが、それ以上では半導体製造には使えないという。
前述の「逆浸透膜の技術」とは、超純水製造の一つの方法である。
水の分子の大きさは0.2ナノメートルだが、ごみとなるもののおおよその大きさは、塩が1ナノメートル、農薬や有機物は1~10ナノメートル位、ウイルスはナノメートル、バクテリアは100ナノメートル。
このように大きさが異なるため、水と不純物を非常に細かい網でこし分ける方法だ。
その網となるのが逆浸透膜で、1ナノメートル以下の穴が無数に開いていて、水分子のみを通す構造になっている。
先の平成19年5月18日、第67回総合科学技術会議が、総理大臣官邸にて開催されたが
そこでも
「世界へ貢献する日本の技術-日本が誇る水利用技術を例に-」として、
超純水製造技術が取り上げられている。
(総合科学技術会議とは、内閣総理大臣、科学技術政策担当大臣の指揮で、総合的・基本的な科学技術政策の企画立案及び総合調整を行なうことを目的とした重要政策に関する会議)
水利用技術は、環境保護の面からも今後ますます重要性を増してゆくことと思われるが、現在でも、半導体つまりパソコン無くしては、世界は回らないことを考えると、日本の超純水製造の技術が、世界を支えていると言えるかも知れない。